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    2. 拋光液專利方法

      2025-06-09 20:30:08 作者:資訊小編

      不同公司擁有不同的拋光液專利方法。隆興拋光材料(東莞)有限公司的“一種高效環(huán)保的化學(xué)拋光液及其制備方法”專利,涉及特定比例原料制成用于單晶硅片加工的拋光液;晶盛機(jī)電的“拋光液供給裝置及供給方法”專利,解決了晶圓拋光技術(shù)泄漏結(jié)晶物問題;東莞市柯林奧半導(dǎo)體材料有限公司有“一種鎂合金電解質(zhì)等離子拋光液以及拋光方法”專利;德米特(蘇州)電子環(huán)保材料有限公司取得“一種鈦合金的機(jī)械化學(xué)拋光方法及鈦合金拋光液”專利。這些專利在不同材料加工領(lǐng)域發(fā)揮作用。

      隆興拋光材料(東莞)有限公司的專利中,化學(xué)拋光液原料有著精確的配比。5% - 8%納米金屬磨料、2% - 4%氧化硅磨料,為單晶硅片的精密加工提供了有力的物理研磨基礎(chǔ)。2% - 10%氧化劑,能有效促進(jìn)化學(xué)反應(yīng),提升材料去除效率。1% - 5%絡(luò)合劑與0.05% - 0.5%緩蝕劑的存在,保障了拋光過程的穩(wěn)定性與安全性。再加上去離子水作為溶劑,以及pH調(diào)節(jié)劑將pH調(diào)節(jié)為7.5 - 8.5,讓整個(gè)拋光液體系達(dá)到最佳狀態(tài),最終使得硅片表面光滑無損傷。

      晶盛機(jī)電的專利則聚焦于拋光液供給環(huán)節(jié)。在晶圓拋光技術(shù)領(lǐng)域,其供給裝置的獨(dú)特設(shè)計(jì)令人眼前一亮。殼體作為整體框架,第一供給模塊負(fù)責(zé)穩(wěn)定供應(yīng)拋光液。堵塞檢測模塊中的篩選單元和流量監(jiān)測單元緊密配合,能精準(zhǔn)察覺結(jié)晶物泄漏隱患。碎晶模塊更是巧妙,基于篩選單元的堵塞狀態(tài)對(duì)結(jié)晶物執(zhí)行碎晶操作,雙向沖刷引導(dǎo)的設(shè)計(jì)讓結(jié)晶物集中,大大提升了監(jiān)測和碎晶操作的便利性與有效性。

      東莞市柯林奧半導(dǎo)體材料有限公司的鎂合金電解質(zhì)等離子拋光液專利,以及德米特(蘇州)電子環(huán)保材料有限公司的鈦合金機(jī)械化學(xué)拋光方法及拋光液專利,也都在各自的金屬材料加工領(lǐng)域有著獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢和應(yīng)用價(jià)值。

      這些不同公司的拋光液專利方法,如同工業(yè)領(lǐng)域的璀璨繁星,在單晶硅片、晶圓、鎂合金、鈦合金等不同材料加工的天空中閃耀,為相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了強(qiáng)大的技術(shù)支撐,推動(dòng)著行業(yè)不斷向前進(jìn)步 。

      (圖/文/攝:太平洋汽車 整理于互聯(lián)網(wǎng))

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