pvd鍍膜是怎樣的工藝
披著貓皮的虎
2023-08-18 09:26:57
pvd鍍膜是怎樣的工藝
1個回答
-
飛龍 2023-08-18 09:26:57
1、PVD(Physical Vapor Deposition)是物理氣相沉積：指利用物理過程實現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。2、它是一種蒸發(fā)真空鍍膜技術(shù)，由蒸發(fā)、運輸、反應(yīng)、沉積四個物理反應(yīng)完成材料鍍膜的過程，可以說是一種替代電鍍的過程。
3、PVD即物理氣相沉積工藝。pvd是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
申明：本文轉(zhuǎn)載自互聯(lián)網(wǎng)，轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé)。文章內(nèi)容僅供參考。如因作品內(nèi)容、版權(quán)和其他問題需要同本網(wǎng)聯(lián)系的，請發(fā)送郵件聯(lián)系刪除。
粵公網(wǎng)安備 44010602000157號